利用電子束在光致抗蝕劑表面上掃描，直接產(chǎn)生圖案。
曝光尺寸為幾十納米到微米級(jí)可調(diào)。
最小線寬：40-50 nm，束斑選擇：納米級(jí)是2.0 微米級(jí)是2.5 。
面積：200*200 μm，加速電壓：30 kV。
